Nachwuchsförderung? Läuft bei uns! Letzte Woche hat uns wieder eine Schulklasse besucht und Technik live erlebt. Ob die Begeisterung übergesprungen ist? Die leuchtenden Augen sprechen für sich – und nächste Woche steht schon der Girls' Day auf dem Plan!
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Wir freuen uns, den neuen C-CROSS vorstellen zu können, eine neue hochpräzise Kreuztisch-Baureihe, die maximale Leistung auf kleinstem Raum bietet. Dank seines kompakten Designs, der hohen Wiederholgenauigkeit und der nahtlosen Integration ist C-CROSS die ideale Lösung für Mess- und Prüftechnik, Lasermikrobearbeitung und Mikroskopie. Entdecken Sie ihn jetzt!
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Wir sind ganz schön stolz! Mit unsere jüngsten Produktgruppe konnten wir dazu beigetragen eine weitere wegweisende Idee zu verwirklichen. Im neuesten Anwendungsbeispiel aus der digital-holographischen 3D-Messtechnik zeigen wir, was unsere direktangetriebenen Linearachsen LINPOS in dem vom Fraunhofer IPM entwickelten optischen 3D-Messstand zur automatisierten Durchführung kundenspezifischer Messaufgaben bewirken. Bei einem Projekttreffen vor Ort konnten sich Rüdiger Ruh und Dr. Peter Hilgers vom Gesamtsystem überzeugen.
Zum Beitrag![[Translate to Deutsch:] Optical 3D measuring stand developed by Fraunhofer IPM](/fileadmin/user_upload/Bilder/Application_Reports/OWIS_x_IPM_Holographic_3D_meassuerement/optical_3D_measuring_stand.jpg)
Die digital-holographische 3D-Messtechnik ermöglicht die schnelle und gleichzeitig hochpräzise Messung der Bauteiloberfläche. Zur Positionierung der Bauteile verwendet das Fraunhofer-Institut für Physikalische Messtechnik IPM zwei direktangetriebene Linearachsen LINPOS von OWIS.
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Für die Gesellschaft für Bild- und Signalverarbeitung (GBS) mbH haben wir ein kundenspezifisches Portalsystem entwickelt, das auf einem Arbeitsraum von 1.250 mm x 550 mm x 45 mm sowohl ein präzises Anfahren einzelner Messpunkte als auch das Scannen der gesamten Oberfläche ermöglicht.
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An der TU Berlin gelang es der Arbeitsgruppe „Analytische Röntgenphysik“ von Prof. Dr. Birgit Kanngießer eine Methode zu entwickeln, die das Licht einer Röntgenröhre effizient nutzt und mit geringem Brillanz-Verlust auf einen Detektor leitet. So lassen sich Messungen zur Bestimmung atomarer Abstände auch in kleineren Laboren durchführen. OWIS Positioniersysteme vereinfachen die Bedienung dabei entscheidend.
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Die Fluoreszenzspektroskopie nutzt Fluoreszenz-Phänomene zur Analyse von Substanzen. Sie unterscheidet sich von einigen anderen Spektroskopien, indem sie die Emission anstatt der Absorption der fluoreszierenden Strahlung misst. Das Forschungsinstitut „wfk – Cleaning Technology Institute e.V.“ in Krefeld untersucht beispielsweise Anschmutzungen auf Stoffoberflächen, um fluoreszenzmarkierte Bakterien zu erfassen. Dieses Verfahren wird zur Evaluation einer erfolgreichen Hygiene bei Waschverfahren verwendet.
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Ein perfekt eingestellter Linienlaser soll eine homogene Linie abbilden. Dies stellt die Laser-Hersteller vor verschiedene Herausforderungen, wie beispielsweise die Geradheit der Linie, eine homogene Intensitätsverteilung sowie die Orientierung der Laserlinie in Bezug auf das Gehäuse. Um das Ziel einer homogenen Linie zu erreichen, muss eine anamorphe refraktive Optik präzise zu einem kollimierten Strahl aus einem Lasermodul ausgerichtet werden.
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Femtosekundenschnelle Spektroskopie mit Röntgenstrahlung ist eine Aufgabe des European XFEL, eines 3,4 km langen Röntgenlasers in der Metropolregion Hamburg. Die FXE-Gruppe (Femtosecond X-Ray Experiments) beschäftigt sich u.a. mit zeitaufgelösten Untersuchungen der Dynamik von Festkörpern und Flüssigkeiten. Hierzu wurde ein Röntgen-Emissions-Spektrometer installiert, welches 16 einzelne Beugungskristalle miteinander vereint.
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In unserem Beispiel aus der Messtechnik und Analytik sollen hunderte Proben so schnell wie möglich analysiert werden. Bei dieser Anwendung ist nicht die laterale Verfahrgeschwindigkeit sondern die Prozesszeit der Hauptkostenpunkt. Durch die Summe der vertikalen Toleranzen aller Komponenten bedarf es einer individuellen Nachfokussierung der Kamera. Um diese zeitintensive Nachfokussierung zu vermeiden, werden unsere Positioniereinheiten auf maximale Ebenheit gefertigt, montiert und vermessen. Durch diese hohe Präzision von nur wenigen Mikrometern kann in vielen Applikationen auf die Nachfokussierung gänzlich verzichtet werden.
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